
Original products only
TSJBIO NMN Lifting Mask, 60 мл
Лифтинг маска с коллагеном 10%, экзосомами и НАД+ 10%
Description
TSJBIO NMN Lifting Mask — инновационная лифтинг-маска нового поколения, созданная для глубокого восстановления, повышения упругости и интенсивного омоложения кожи. Формула на основе NMN, экзосом и PDRN помогает активировать клеточное обновление, укрепить защитный барьер кожи, уменьшить выраженность морщин и вернуть лицу более подтянутый, свежий и сияющий вид. Комплекс растительных стволовых клеток, гидролизованного коллагена и Cica-комплекса интенсивно увлажняет, успокаивает чувствительную кожу и способствует её быстрому восстановлению после стресса и внешних воздействий. Благодаря технологии Liposomeal активные компоненты проникают глубоко в кожу с эффективностью абсорбции до 95–99%, обеспечивая выраженный и пролонгированный anti-age эффект не только на поверхности, но и на клеточном уровне. Шёлковистая геле-кремовая текстура приятно охлаждает кожу при нанесении, высыхает в прозрачную «дышащую» плёнку и создаёт заметный эффект подтяжки и уплотнения кожи. Маска помогает выровнять тон, улучшить текстуру, повысить эластичность и сделать кожу более гладкой, плотной и ухоженной.
Specifications
| SKU | 13400120009 |
|---|---|
| Brand | TSJBIO |
| Country of origin | South Korea |
| Purpose | Cosmetologist at home |
| Volume / content | 60 мл |
| Declaration of conformity | Open in registry |
Composition
Ingredients: Hydrolyzed Collagen, Prunus Amyg-dalus Dulcis (Sweet Almond) Oil, Dipropylene Glycol, Polyvinyl Alcohol, 1,2-Hexanediol, Algin, Sodium Polystyrene Sulfonate, Nicotinamide Mononucleotide, Lauryl Glucoside, Polyglyceryl-6 Laurate, Hydrolyzed Honey Protein, Milk Protein Extract, Propolis Extract, Centella Asiatica Extract, Centella Asiatica Meristem Cell Culture, Centella Asiatica Callus Extracellular Vesicles, Hydrolyzed DNA, Madecassoside, Lauryl Glucoside, Polyglyceryl-6 Laurate, Pectin, Sucrose, Myristyl Glucoside, Cellulose Gum, Hydroxyethylcellulose, Sodium Phosphate, Disodium Phosphate, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, Fragrance, Geraniol, Hexyl Cinnamal, Limonene, Linalool
How to use
Очистите кожу и промокните лицо полотенцем.
Нанесите равномерный плотный слой маски.
Дайте полностью высохнуть (≈ 30 минут), не трогая лицо. Если слой слишком тонкий, маску будет сложно снять.
Аккуратно снимите маску, начиная с краёв



